商品の詳細情報
石鹸オフOKの日焼け止め下地
日焼け止めメイク下地 くすみ補正やメイクキープなどの下地効果に加え、 長時間保湿&お肌を保護する7種の美容液成分を配合した 敏感肌の方にもうれしい多機能UVカットメイク下地。 さらに紫外線を美肌効果に変換し、美しい肌印象へ導きます。 香り:さわやかなグレープフルーツ精油の香り ◆SPF25・PA+++ ◆ノンケミカル(紫外線吸収剤不使用) ◆メイク下地(10時間*1崩れない)*1セフィーヌ自社調べ ◆27種類の美容成分 ◆石鹸で落とせる 【ご使用方法】 スキンケア後、1プッシュを手にとり、頬の部分からお顔全体に塗り残しのないよう丁寧になじませます。 首にもなじませてお使いください。汗をかいたり、タオルで拭いた後などは必要に応じて塗り直してください。 商品詳細 内容量 30g メーカー 株式会社セフィーヌ 生産国 日本 表示成分 水、シクロペンタシロキサン、BG、酸化 亜鉛、 イソノナン酸イソノニル、酸化 チタン、ポリソルベート60、PEG-10 ジメチコン、ステアリン酸ソルビタン、 水酸化Al、酸化スズ、アルカリゲネス 産生多糖体、シルク、加水分解シルク、 スピルリナマキシマエキス、 異性化糖、 スイゼンジノリ多糖体、セラミドNP、α- グルカンオリゴサッカリド、アスコルビルグルコシド、テトラヘキシルデカン酸 アスコルビル、ツボクサエキス、褐藻 エキス、ハナビラタケエキス、 ヨモギ葉エキス、オウゴン根エキス、イザヨイバラエキス、アルテロモナス発酵エキス、 ビルベリー葉エキス、アーチチョーク葉 エキス、ユビキノン、カエサルピニアス ピノサ果実エキス、グリチルリチン酸 2K、アラントイン、トコフェロール、アルギ ニン、グリセリン、スクロース、グリセリル グルコシド、水添レシチン、ポリグリセ リレー3ポリジメチルシロキシエチルジメ チコン、ハイドロゲンジメチコン、トリエ チルヘキサノイン、トリエトキシシリルエ チルポリジメチルシロキシエチルヘキ シルジメチコン、プルラン、ヤシ脂肪酸 スクロース、キサンタンガム、メチコン、 酸化セリウム、レシチン、マイカ、白金、 ペンチレングリコール、プロパンジオール、 タルク、酸化鉄、グレープフルーツ果皮 油、プロピルパラベン、メチルパラベン 広告文責 ワイズファクトリー 043-356-4915 商品区分 化粧品/ヘアケア/ボディケア/スキンケア